N-메틸-2-피롤리돈 NMP N-메틸피롤리돈 CAS 872-50-4

트리켐(Tree Chem) 사의 N-메틸-2-피롤리돈(CAS 872-50-4)은 강력한 용해력과 높은 화학적 안정성을 지닌 고급 극성 비양성자성 용매입니다. 반도체 제조, 리튬 이온 배터리, 고순도 화학 합성 등 전자 산업에서 널리 사용됩니다.

엄격한 품질 관리 하에 생산되는 Tree Chem 전자 등급 NMP는 반도체 및 배터리 분야의 순도 및 전도성 요구 사항을 충족합니다. 각 배치는 첨단 분석 방법을 사용하여 일관된 성능과 초저수분 함량을 보장합니다. 문의 또는 협력 관련 사항은 연락 주시기 바랍니다. info@cntreechem.com.

사양

기본 정보

기술 사양

응용 프로그램

리튬 배터리 산업

• N-메틸-2-피롤리돈(NMP)은 리튬 이온 배터리 산업에서 중요한 용매로, 주로 양극 슬러리 제조에 사용됩니다. NMP는 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF) 바인더를 용해시켜 LiCoO₂, LiFePO₄와 같은 활성 물질과 알루미늄 전류 집전체 사이의 접착력을 향상시키는 균일한 슬러리를 형성합니다. NMP의 높은 끓는점과 강한 극성은 고온 코팅 및 건조 과정에서 우수한 분산성과 안정성을 제공합니다.
• 신에너지 산업이 지속적으로 성장함에 따라 NMP 수요가 급증했습니다. 2024년에는 전기 자동차 및 에너지 저장 장치 생산의 호황에 힘입어 중국이 전 세계 NMP 소비량의 95% 이상을 차지했습니다. 이 화합물은 고형분 함량이 높은 슬러리 기술에서도 핵심적인 역할을 하며, 최적화된 점도 제어를 통해 에너지 밀도를 높이고 제조 효율을 향상시킵니다. 진공 증류를 통해 정제된 회수 NMP는 99.9%의 순도를 달성하여 지속가능성과 비용 효율성을 보장합니다.

전자 및 반도체 산업

• 반도체 분야에서 NMP는 고성능 포토레지스트 제거제 및 정밀 세척 용액으로 사용됩니다. 웨이퍼, 인쇄회로기판(PCB) 및 액정 디스플레이(LCD) 패널에서 레지스트 잔류물, 플럭스 및 유기 오염 물질을 효과적으로 제거합니다. 금속, 세라믹 및 실리콘 기판과의 호환성이 뛰어나 5nm 및 3nm와 같은 첨단 제조 공정에 적합한 세척 매체입니다.
• NMP는 EKC 세척액과 같은 전자 등급 화학 혼합물에도 사용되며, 민감한 부품을 부식시키지 않고 깊숙이 박힌 고분자 잔류물을 용해하는 비양성자 극성 용매 역할을 합니다. 또한 반도체 및 디스플레이에 필수적인 폴리이미드 필름, 에폭시 수지 및 자성 재료 생산에서 운반 용매로 사용됩니다.

코팅 및 잉크

• 코팅 및 잉크 분야에서 NMP는 고비점 보조 용매로 작용하여 도막 형성, 접착력 및 평활성을 향상시킵니다. 아크릴, 폴리우레탄 및 에폭시 수지를 용해시켜 코팅의 유연성과 광택을 높여줍니다. 수성 제형에서는 NMP가 도막 형성 보조제 역할을 하여 건조 속도를 조절하고 표면 결함을 최소화합니다.
• 잉크 산업에서 NMP는 UV 경화형 및 그라비아 인쇄 잉크의 보조 용매로 사용되어 유동성과 안료 분산을 최적화합니다. 다양한 수지 시스템과의 호환성 덕분에 NMP는 높은 화학적 안정성과 환경 저항성이 요구되는 자동차 코팅, 선박 도료 및 고급 인쇄 분야에 사용됩니다.

제약 및 농화학 산업

• NMP는 반응 매체, 추출 용매 및 의약품 합성 중간체로 널리 사용됩니다. 펩타이드 합성, 항생제 생산 및 약물 전달 제형에 관여하며, 낮은 독성과 우수한 용해성으로 인해 경피 투여 및 서방형 제제에 적합합니다.
• 농화학 분야에서 NMP는 제초제, 살충제, 살균제의 합성 용매 및 제형 보조제로 사용됩니다. NMP는 현탁액 및 유화성 농축액에서 활성 성분의 용해도와 균일한 분포를 향상시킵니다. 또한 화학적으로 불활성이므로 활성 물질 및 제형 첨가제와 호환성이 뛰어나 안정적이고 효율적인 농약 제품 생산에 기여합니다.

고분자 및 정밀화학 산업

• NMP는 고분자 합성, 특히 폴리이미드, 폴리페닐렌설파이드(PPS), 아라미드 및 폴리우레탄 수지 생산에 필수적인 용매입니다. NMP는 고분자 사슬에 탁월한 용해력을 제공하여 균일한 반응과 매끄러운 필름 형성을 가능하게 합니다. 정밀화학 분야에서는 NMP를 이용하여 고순도의 헤테로고리 화합물 및 첨단 소재와 특수화학 제품에 사용되는 중간체를 합성할 수 있습니다.
• 또한 NMP는 엔지니어링 플라스틱 및 섬유의 중합 용매로 작용하여 고강도, 내열성 소재 생산을 가능하게 합니다. 코팅 및 접착제 분야에서 NMP는 균일한 고분자 분산을 보장하여 성능 및 가공 안정성을 향상시킵니다.

가스 분리 및 추출

• NMP는 방향족 및 불포화 탄화수소에 대한 높은 선택성을 지니고 있어 리포메이트에서 벤젠, 톨루엔, 자일렌(BTX)을 분리하는 데 사용될 뿐만 아니라 아세틸렌과 부타디엔을 정제하는 데에도 활용됩니다. 가스 처리 분야에서는 천연가스 및 합성가스 공정에서 탈황 용매로 사용됩니다. 또한, NMP의 안정성과 낮은 휘발성은 장시간 추출 및 가스 정제 시스템에 이상적인 소재입니다.

기타 산업 응용 분야

• NMP는 계면활성제 생산, 금속 세척, 윤활유 정제 및 멤브레인 제조 등 다양한 분야에서 활용됩니다. 유화제 제형에서 표면 활성을 향상시키고 왁스 에멀젼의 분산제로도 사용됩니다. 금속 가공 분야에서는 탈지 및 박리제로 작용하여 부식을 최소화하면서 높은 효율을 제공합니다. 또한 역삼투 및 한외여과 시스템과 같은 멤브레인 소재에도 사용되어 일관된 다공성과 막 강도를 제공합니다.

보관 및 취급

• 에 저장 밀봉 용기 건조하고 통풍이 잘 되는 환경에서.
• 노출을 피하십시오 열, 불꽃, 그리고 햇빛.
• 멀리하세요 강산화제 및 산.
• 핸들 사용 장비를 건조하고 깨끗하게 유지하세요.
• 고순도 전자 재료 취급 시 질소 블랭킷을 적용하십시오.

사용 공지

• 작업 중에는 장갑, 보안경 및 보호복을 착용하십시오.
• 장시간 피부 또는 흡입에 노출되지 않도록 하십시오.
• 작업 공간에 적절한 환기가 이루어지도록 하십시오.
• 폐기물 처리 시에는 지역 환경 규정을 준수하십시오.
• 음극 슬러리 조성: LiCoO₂ 93.5%, Super P 3%, PVDF 2.5%, 나머지는 NMP — 균일한 분산과 강력한 전극 접착력을 보장합니다.
• 고함량 고체 음극 슬러리: 활성 물질 100g, CNT 0.83g, PVDF 0.8g, NMP 8.08g — 에너지 밀도 및 건조 효율 향상.
• 포토레지스트 제거 용액: NMP 60%, DMSO 20%, 증류수 15%, 억제제 5% — 레지스트 잔류물을 효과적으로 제거합니다.
• PCB 세척액 조성: 디아세톤 알코올 120부, NMP 24부, 비이온성 계면활성제 4부 — 플럭스 및 표면 오염물질을 제거합니다.
• 수성 코팅: 수지 혼합물 + 안료 + 첨가제 + NMP 6% — 도막 형성 및 평활성을 향상시킵니다.
• UV 잉크 조성: 에폭시 아크릴레이트 70%, 희석제 15%, 광개시제 7%, 보조 용매 NMP - 유동성 및 접착력 최적화.
• 펩타이드 합성 매질: 아미노산 1mmol + DCC 1.2mmol + HOBt 1.2mmol + NMP 40mL — 효율적인 반응 환경을 제공합니다.
• 제초제 합성: 원료 + NMP 100mL — 고순도 제품 73% 생성.
• 왁스 유화제: 파라핀 + NMP 15–20% — 안정적이고 산 및 알칼리에 내성이 있는 마이크로에멀젼을 형성합니다.
• 가스 정화 시스템: NMP는 방향족 추출제 및 탈황 용매로 사용되어 효율성과 선택성을 향상시킵니다.

포장

• 200kg 플라스틱 드럼
• 200kg 철제 드럼통
• 맞춤형 포장은 요청 시 가능합니다.