N-Метил-2-пирролидон NMP N-Метилпирролидон CAS 872-50-4

N-Метил-2-пирролидон Tree Chem (CAS 872-50-4) — высококачественный полярный апротонный растворитель с высокой растворяющей способностью и высокой химической стабильностью. Он широко используется в электронной промышленности для производства микросхем, литий-ионных аккумуляторов и высокочистого химического синтеза.

Произведенный под строгим контролем качества, NMP-продукт Tree Chem Electronic Grade соответствует требованиям к чистоте и проводимости, предъявляемым к полупроводникам и аккумуляторам. Каждая партия тестируется с использованием передовых аналитических методов для обеспечения стабильных характеристик и сверхнизкого содержания влаги. По вопросам сотрудничества обращайтесь info@cntreechem.com.

Спецификация

Основная информация

Параметр	Ценить
Название продукта	N-Метил-2-пирролидон
Аббревиатура	НМП
Номер CAS.	872-50-4
Номер EINECS.	212-828-1
Молекулярная формула	C₅H₉NO
Молекулярный вес	99.13
Появление	Бесцветная прозрачная жидкость
Синонимы	1-Метил-2-пирролидон; N-Метилпирролидон
Упаковка	Пластиковая бочка 200 кг / железная бочка 200 кг

Технические характеристики

Элемент	Спецификация	Единица	Метод испытания
Чистота	≥99,90	%	Газовая хроматография
Влага	≤0,02	%	Метод Карла Фишера
Цвет	≤10	АПХА	Колориметрия
Плотность (D₄₂₀)	1.027–1.035	г/мл	Метод плотности
Показатель преломления (nD²⁰)	1.465–1.475	—	Рефрактометрия
pH (20°C, 100 г/л)	7–9	—	Потенциометрический метод

Приложения

Промышленность литиевых аккумуляторов

N-метил-2-пирролидон (NMP) — важнейший растворитель в производстве литий-ионных аккумуляторов, используемый в основном для приготовления катодной суспензии. Он растворяет связующие вещества на основе поливинилиденфторида (ПВДФ) с образованием однородной суспензии, которая улучшает адгезию между активными материалами, такими как LiCoO₂, LiFePO₄, и алюминиевым токосъемником. Высокая температура кипения и сильная полярность NMP обеспечивают отличную дисперсию и стабильность при нанесении покрытия и сушке при высоких температурах.
По мере роста новой энергетической отрасли спрос на NMP резко возрос. В 2024 году на Китай пришлось более 951 т/т мирового потребления NMP, что обусловлено бурным ростом производства электромобилей и накопителей энергии. Этот компонент также играет ключевую роль в технологии производства суспензий с высоким содержанием твердых веществ, где оптимизированный контроль вязкости обеспечивает более высокую плотность энергии и повышение эффективности производства. Полученный NMP, очищенный методом вакуумной дистилляции, достигает чистоты 99,91 т/т, что обеспечивает экологичность и экономическую эффективность.

Электронная и полупроводниковая промышленность

В области полупроводников NMP используется в качестве высокоэффективного средства для удаления фоторезиста и прецизионного очищающего растворителя. Он эффективно удаляет остатки резиста, флюс и органические загрязнения с пластин, печатных плат (PCB) и панелей жидкокристаллических дисплеев (ЖК-дисплеев). Совместимость с металлами, керамикой и кремниевыми подложками делает его предпочтительным очищающим средством для современных технологических процессов, таких как 5 нм и 3 нм.
NMP также используется в химических смесях электронного класса, таких как чистящие растворы EKC, где он действует как непротонный полярный растворитель, растворяя глубокие полимерные остатки, не вызывая коррозии чувствительных компонентов. Кроме того, он используется в качестве растворителя-носителя при производстве полиимидных пленок, эпоксидных смол и магнитных материалов, необходимых для полупроводников и дисплеев.

Покрытия и чернила

В покрытиях и чернилах NMP действует как высококипящий сорастворитель, улучшающий пленкобразование, адгезию и выравнивание. Он растворяет акриловые, полиуретановые и эпоксидные смолы, повышая гибкость и блеск покрытий. В составах на водной основе NMP действует как вспомогательный пленкообразователь, регулируя скорость высыхания и минимизируя дефекты поверхности.
В производстве чернил он используется в качестве сорастворителя в УФ-отверждаемых и глубокопечатных красках, оптимизируя текучесть и дисперсию пигментов. Совместимость NMP с различными системами смол позволяет использовать его в автомобильных покрытиях, корабельных красках и высокотехнологичных печатных приложениях, требующих высокой химической стабильности и устойчивости к воздействию окружающей среды.

Фармацевтическая и агрохимическая промышленность

НМП широко используется в качестве реакционной среды, экстракционного растворителя и промежуточного продукта в фармацевтическом синтезе. Он участвует в синтезе пептидов, производстве антибиотиков и создании лекарственных форм. Его низкая токсичность и отличная растворимость делают его пригодным для трансдермальных систем и систем с контролируемым высвобождением.
В агрохимической отрасли НМП используется как синтетический растворитель и вспомогательное вещество для рецептур гербицидов, инсектицидов и фунгицидов. Он улучшает растворимость и равномерное распределение действующих веществ в суспензиях и эмульгируемых концентратах. Его химическая инертность обеспечивает совместимость с действующими веществами и добавками, что способствует получению стабильных и эффективных пестицидных продуктов.

Полимерная и тонкая химическая промышленность

NMP является незаменимым растворителем в синтезе полимеров, особенно при производстве полиимидов, полифениленсульфида (ПФС), арамидов и полиуретановых смол. Он обеспечивает отличную сольватацию полимерных цепей, обеспечивая равномерность реакций и гладкое формирование плёнок. В тонкой химии NMP способствует высокочистому синтезу гетероциклических соединений и промежуточных продуктов, используемых в современных материалах и специальных химикатах.
Он также действует как растворитель для полимеризации конструкционных пластиков и волокон, позволяя производить высокопрочные, термостойкие материалы. В покрытиях и клеях NMP обеспечивает однородное распределение полимеров, улучшая эксплуатационные характеристики и стабильность процесса переработки.

Разделение и извлечение газа

Высокая селективность NMP к ароматическим и ненасыщенным углеводородам позволяет использовать его для выделения бензола, толуола и ксилола (БТК) из риформата, а также для очистки ацетилена и бутадиена. В газоочистке он используется в качестве растворителя для десульфуризации в процессах переработки природного газа и синтез-газа. Его стабильность и низкая летучесть делают его идеальным для систем экстракции и газоочистки с длительным циклом.

Другие промышленные применения

NMP находит дополнительное применение в производстве поверхностно-активных веществ, очистке металлов, очистке смазочных материалов и производстве мембран. Он повышает поверхностную активность в эмульгаторах и служит диспергатором в восковых эмульсиях. В металлообработке он действует как обезжиривающий и десорбирующий агент, обеспечивая высокую эффективность при минимальной коррозии. Он также используется в мембранных материалах, таких как системы обратного осмоса и ультрафильтрации, обеспечивая стабильную пористость и прочность пленки.

Хранение и обработка

Хранить в герметичные контейнеры в сухих, проветриваемых условиях.
Избегайте воздействия тепло, искры и солнечный свет.
Держать подальше от сильные окислители и кислоты.
Обращаться с помощью сухое и чистое оборудование.
Применяйте азотную подушку для обработки высокочистых электронных материалов.

Уведомление об использовании

Во время работы используйте перчатки, защитные очки и защитную одежду.
Не допускать длительного воздействия на кожу или вдыхание.
Обеспечьте достаточную вентиляцию в рабочих зонах.
Соблюдайте местные экологические нормы по утилизации отходов.
Состав катодной суспензии: LiCoO₂ 93,5%, Super P 3%, PVDF 2,5%, остаток NMP — обеспечивает равномерное распределение и прочную адгезию электрода.
Высокотвердая катодная суспензия: Активный материал 100 г, УНТ 0,83 г, ПВДФ 0,8 г, НМП 8,08 г — повышает плотность энергии и эффективность сушки.
Раствор для удаления фоторезиста: NMP 60%, DMSO 20%, DI вода 15%, ингибиторы 5% — эффективно удаляет остатки резиста.
Состав для очистки печатных плат: диацетоновый спирт 120 частей, NMP 24 части, неионогенное поверхностно-активное вещество 4 части — удаляет флюс и поверхностные загрязнения.
Покрытие на водной основе: смесь смол + пигмент + добавки + NMP 6% — улучшает пленкообразование и выравнивающие свойства.
Состав УФ-чернил: эпоксидный акрилат 70%, разбавитель 15%, фотоинициаторы 7%, NMP в качестве сорастворителя — оптимизирует текучесть и адгезию.
Среда для синтеза пептидов: аминокислота 1 ммоль + DCC 1,2 ммоль + HOBt 1,2 ммоль + NMP 40 мл — обеспечивает эффективную реакционную среду.
Синтез гербицида: Сырье + NMP 100 мл — получается продукт высокой чистоты 73%.
Восковой эмульсионный агент: Парафин + НМП 15–201ТП3Т — образует стабильную кислото- и щелочестойкую микроэмульсию.
Система очистки газа: НМП используется в качестве экстрагента ароматических соединений и растворителя для десульфурации — повышает эффективность и селективность.