Dung dịch Hydrogen Peroxide H₂O₂ loại dùng trong điện tử CAS 7722-84-1

Công ty Tree Chem sản xuất Hydrogen peroxide loại dùng trong điện tử (CAS 7722-84-1) Sản phẩm này được sản xuất dưới sự kiểm soát lọc và tinh chế nghiêm ngặt để đáp ứng các yêu cầu khắt khe của các nhà máy sản xuất chất bán dẫn, dây chuyền quang điện và sản xuất LCD/LED. Sản phẩm này mang lại hiệu quả vượt trội. hàm lượng kim loại ở mức dưới ppb, Sản phẩm có độ ổn định phân hủy tuyệt vời và độ trong suốt cao. Nó có nhiều loại (dòng HP và UP) được thiết kế riêng cho các ứng dụng làm sạch và oxy hóa chính xác khác nhau.

Để được tư vấn kỹ thuật hoặc hợp tác, vui lòng liên hệ info@cntreechem.com.

Đặc điểm kỹ thuật

Thông tin cơ bản

Tham số	Giá trị
Số CAS	7722-84-1
Từ đồng nghĩa	Dung dịch hydro đioxit, peroxit
Số EINECS.	231-765-0
Công thức phân tử	H₂O₂
Cấp	Cấp độ điện tử
Bao bì	Thùng phuy/thùng chứa IBC Integra 200 lít

Thông số kỹ thuật

Mục	HP-1	HP-2	UP-1	UP-2	UP-3	UP-4
Hàm lượng H₂O₂ (với %)	30–35	30–35	30–32	30–32	30–32	30–32
Màu (Hazen) ≤	10	10	10	10	10	10
Axit tự do (dưới dạng H₂SO₄, ppm) ≤	30	30	30	30	10	10
Tổng cacbon hữu cơ (TOC, ppm) ≤	40	40	20	20	10	5
Clorua (Cl⁻, ppm) ≤	0.5	0.5	0.2	0.2	0.03	0.03
Sulfite (SO₃²⁻, ppm) ≤	2	2	0.4	0.4	0.03	0.03
Photphat (PO₄³⁻, ppm) ≤	1	1	0.4	0.4	0.03	0.03
Sulfat (SO₄²⁻, ppm) ≤	2	2	0.2	0.2	0.03	0.03
Nhôm (Al, ppb) ≤	500	100	10	10	0.1	0.01
Asen (As, ppb) ≤	20	5	1	1	0.1	0.01
Boron (B, ppb) ≤	50	20	10	10	0.1	0.01
Bari (Ba, ppb) ≤	100	50	10	10	0.1	0.01
Canxi (Ca, ppb) ≤	200	50	10	10	0.1	0.01
Cadmi (Cd, ppb) ≤	50	20	10	10	0.1	0.01
Crom (Cr, ppb) ≤	20	10	10	10	0.1	0.01
Đồng (Cu, ppb) ≤	20	10	10	10	0.1	0.01
Sắt (Fe, ppb) ≤	100	50	10	10	0.1	0.01
Kali (K, ppb) ≤	200	100	10	10	0.1	0.01
Magiê (Mg, ppb) ≤	100	50	10	10	0.1	0.01
Natri (Na, ppb) ≤	50	10	10	10	0.1	0.01
Niken (Ni, ppb) ≤	50	10	10	10	0.1	0.01
Strontium (Sr, ppb) ≤	50	10	10	10	0.1	0.01
Thiếc (Sn, ppb) ≤	50	10	10	10	0.1	0.01
Titan (Ti, ppb) ≤	100	50	10	10	0.1	0.01
Vanadi (V, ppb) ≤	50	10	10	10	0.1	0.01
Kẽm (Zn, ppb) ≤	100	50	10	10	0.1	0.01
Số lượng hạt (≥0,2 µm, pcs/mL) ≤	—	—	10	10	—	—

Ứng dụng

Sản xuất chất bán dẫn

Hydrogen peroxide loại dùng trong điện tử được sử dụng rộng rãi trong làm sạch và khắc bán dẫn Các quy trình này đóng vai trò quan trọng trong việc loại bỏ các tạp chất hữu cơ và kim loại khỏi các tấm silicon. Trong các bước làm sạch RCA, hỗn hợp như H₂O₂ + NH₄OH + H₂O (SC-1) loại bỏ hiệu quả cặn và các hạt hữu cơ, trong khi H₂O₂ + HCl + H₂O (SC-2) loại bỏ các ion kim loại và oxit bề mặt.
Trong quá trình khắc ướt, hydro peroxide đóng vai trò là chất xúc tác. chất oxy hóa được kiểm soát, Nó tạo thành một lớp oxit mỏng có thể được loại bỏ một cách chọn lọc để đạt được sự kiểm soát cấu trúc vi mô chính xác. Độ tinh khiết và độ ổn định cao của nó đảm bảo sự phát sinh hạt tối thiểu và ô nhiễm kim loại thấp, đáp ứng các tiêu chuẩn khắt khe của ngành công nghiệp bán dẫn.

Sản xuất mạch tích hợp (IC) và tấm bán dẫn

Trong sản xuất mạch tích hợp, hydro peroxide loại dùng trong điện tử được sử dụng trong Loại bỏ lớp cản quang và xử lý bề mặt. Khi kết hợp với axit sulfuric (tạo thành dung dịch Piranha), nó nhanh chóng oxy hóa và phân hủy các chất hữu cơ còn sót lại từ quá trình quang khắc.
Hydrogen peroxide cũng hỗ trợ trong thụ động hóa bề mặt kim loại, Đặc biệt hữu ích cho các lớp đồng và nhôm, vật liệu này tạo thành các lớp màng oxit đồng nhất giúp bảo vệ chống ăn mòn. Mức độ tạp chất cực thấp và đặc tính phân hủy ổn định khiến nó trở nên lý tưởng cho các công nghệ bán dẫn tiên tiến đòi hỏi độ chính xác dưới nanomet.

Mạch in (PCB) và vi điện tử

Trong sản xuất PCB, hydro peroxide đóng vai trò là... chất tẩy rửa, chất ăn mòn và chất loại bỏ oxit. Khi kết hợp với axit sulfuric hoặc persunfat, nó oxy hóa bề mặt đồng, cải thiện độ bám dính của các lớp mạ tiếp theo. Hydrogen peroxide cũng được sử dụng trong các bể làm sạch vi điện tử để loại bỏ cặn chất trợ hàn, dầu và các chất gây ô nhiễm hữu cơ khỏi các đường mạch nhỏ.
Của nó Độ ổn định phân hủy cao và hàm lượng ion kim loại thấp Ngăn ngừa các phản ứng điện hóa không mong muốn, đảm bảo bề mặt nhẵn và đồng nhất. Hydrogen peroxide loại dùng trong điện tử giúp tăng độ tin cậy của sản phẩm và kéo dài tuổi thọ của các linh kiện vi điện tử.

Ngành công nghiệp quang điện

Hydrogen peroxide được sử dụng trong sản xuất pin mặt trời, Đặc biệt hữu ích trong các quy trình làm sạch, tạo cấu trúc và phủ lớp chống phản xạ trên tấm bán dẫn. Nó loại bỏ các tạp chất kim loại và hữu cơ khỏi tấm bán dẫn silicon trước khi phủ lớp, đảm bảo khả năng hấp thụ ánh sáng tốt hơn và hiệu suất chuyển đổi năng lượng cao hơn.
Trong sản xuất pin mặt trời hiệu suất cao (như pin PERC và HJT), hydro peroxide được sử dụng trong các dung dịch làm sạch tiên tiến giúp ngăn ngừa ô nhiễm hạt và các khuyết tật bề mặt, góp phần duy trì hiệu suất quang điện ổn định.

Các linh kiện LED và quang điện tử

Hydrogen peroxide loại dùng trong điện tử rất quan trọng trong... sản xuất chip LED và linh kiện quang điện tử, Trong đó, độ sạch bề mặt ảnh hưởng trực tiếp đến hiệu suất quang học. Nó loại bỏ các lớp màng hữu cơ và cặn đánh bóng khỏi chất nền sapphire, GaN và SiC.
Trong các hệ thống lắng đọng hơi hóa học kim loại hữu cơ (MOCVD), hydro peroxide hỗ trợ làm sạch buồng và bảo trì linh kiện, giúp giảm ô nhiễm và cải thiện tỷ lệ sản phẩm đạt chất lượng. Độ tinh khiết cao của nó giúp giảm thiểu các ion dư có thể làm giảm độ trong suốt quang học hoặc độ dẫn điện.

Xử lý vật liệu tiên tiến

Hydrogen peroxide cũng được sử dụng trong chuẩn bị vật liệu nano, tổng hợp chất xúc tác và chế tạo màng mỏng. Tính chất oxy hóa được kiểm soát của nó cho phép hình thành các cấu trúc nano oxit và lớp phủ chức năng. Ví dụ, nó được sử dụng trong việc điều chế TiO₂, ZnO và oxit graphene với kích thước hạt đồng nhất và các đặc tính bề mặt được kiểm soát.
Độ tinh khiết cực cao của hydro peroxide cấp điện tử đảm bảo các phản ứng hóa học chính xác mà không đưa vào các tạp chất không mong muốn, hỗ trợ đổi mới trong vật liệu tiên tiến và điện tử thế hệ tiếp theo.

Lưu trữ & Xử lý

Bảo quản trong sạch sẽ, khô ráo và được kiểm soát nhiệt độ môi trường.
Sử dụng thiết bị và đường ống chuyên dụng Được làm từ các vật liệu tương thích (ví dụ: HDPE, PTFE, PVDF).
Tránh tiếp xúc với kim loại, bụi hoặc chất gây ô nhiễm hữu cơ.
Tránh xa nguồn nhiệt, tia lửa và ánh nắng trực tiếp.
Đảm bảo hệ thống nối đất và hệ thống truyền tải khép kín hoạt động đúng cách trong quá trình sử dụng.

Thông báo sử dụng

Chỉ xử lý trong phòng sạch hoặc môi trường được kiểm soát.
Luôn sử dụng container chuyên dụng để tránh lây nhiễm chéo.
Không được trộn với axit, bazơ hoặc chất khử.
Người vận hành phải mặc trang phục phù hợp. thiết bị bảo hộ.
Vứt bỏ chất thải theo quy định sau: các quy định về môi trường và an toàn.
Dung dịch làm sạch SC-1: hydro peroxide 30%, amoni hydroxit 10%, nước 60%; hydro peroxide oxy hóa và loại bỏ cặn hữu cơ và các hạt bám trên tấm silicon.
Dung dịch làm sạch SC-2: hydro peroxide 30%, axit clohydric 10%, nước 60%; hydro peroxide hòa tan các chất gây ô nhiễm kim loại và tăng cường độ tinh khiết bề mặt tấm bán dẫn.
Hỗn hợp làm sạch Piranha: hydro peroxide 30%, axit sulfuric 70%; hydro peroxide oxy hóa các chất cặn hữu cơ và phân hủy các lớp chất cản quang trong quá trình sản xuất mạch tích hợp.
Dung dịch xử lý bề mặt đồng: hydro peroxide 10%, axit sulfuric 5%, nước 85%; hydro peroxide oxy hóa bề mặt đồng và cải thiện độ bám dính cho quá trình mạ.
Công thức làm sạch tấm wafer quang điện: hydro peroxide 25%, amoniac 5%, nước 70%; hydro peroxide loại bỏ các tạp chất hữu cơ và tăng cường hiệu suất của pin mặt trời.
Dung dịch làm sạch chất nền LED: hydrogen peroxide 15%, nước khử ion 85%; hydrogen peroxide loại bỏ cặn đánh bóng và màng hữu cơ để cải thiện độ trong suốt quang học.
Hệ thống tổng hợp vật liệu nano: hydro peroxide 10%, titan isopropoxide 2%, nước 88%; hydro peroxide kiểm soát quá trình oxy hóa để tạo thành các hạt nano TiO₂ đồng nhất.